447 完美的闭环-《致富从1978开始》


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    等林本建出来,三人边吃边聊,卫向东正式向林本建发出邀请,希望他到大陆继续研究紫外光(euv)光刻,将来在众芯科技专门成立一个部门由他负责,同样可以给予众芯科技的股份。

    “林先生,如果你还有什么要求,我们都可以谈。”卫向东的态度很诚恳。

    林本建沉默了下开口说道:“卫先生,或许你不清楚,研发13.4纳米的极紫外光(euv)遥不可及而且耗费巨大,现在光刻机还卡在193纳米这个这个阶段。”

    “我知道,极紫外光(euv)是光刻机发展的未来,而193纳米这道坎终将会被迈过。”卫向东笑回答道。

    林本建听了笑了起来:“卫先生,你是个局外人,竟然比我们这些局内人还充满自信?”

    “或许正是因为我是个局外人,所以和你看问题角度不同,光刻机停留在193纳米已经好几年了吧?所谓厚积薄发该到突破的时候。不是有一种叫什么浸润式光刻吗?我看那个法子就行。”卫向东说道。

    “浸润式光刻?卫先生你也认为浸润式可行?!”林本建的声音突然变得激动起来。

    不是我认为行,是因为历史最后证明这个法子行!

    卫向东实在不明白这个林本建为何如此激动,旁边的张如京才告诉他,在80年代末期,林本建就提出随着芯片精度越来越高,光刻机的精度最终会遇到瓶颈,可以用浸润式原理解决这个问题。

    不过当时业界正要准备1000    纳米的量产,后来林本建又帮ibm解决两个世代以后的技术,也就是500纳米;那时还有很多方法可用,不需要浸润式这种颇为复杂的办法。

    直到九十年代初期,光刻机的研发卡到了193纳米,包括ibm、佳能等大型公司,都是朝着研发干式157nm光刻机的道路奋力前进,根本没有理睬到林本建的这个冷门的浸润式!这让他很是沮丧。

    所以,今天从一个外行嘴里说出看好浸润时,林本建感到有些激动。

    “卫先生,你怎么认为浸润式办法可行,如何液体穿透率不高问题?”

    面对林本建急切的发问,卫向东愣住了。

    我懂个屁啊......

    我只不过是穿越前在网上无聊时候看过一些这样的文章,知道几个术语而已何况又过去了这么多年?

    哎.....
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